摘要与评语由 AI 辅助整理,事实以原文为准 · 可溯源
- 落地IT之家
ASML High NA EUV累计曝光超135万片晶圆
ASML High NA EUV光刻机累计曝光超135万片晶圆,10台客户系统投运,机队可用率…
要点High NA EUV迈向量产,可用率84%,满足未来5个DRAM节点需求。
可溯源 · 落地/新品/布局/市场 · 按制造业大类筛选
摘要与评语由 AI 辅助整理,事实以原文为准 · 可溯源
ASML High NA EUV光刻机累计曝光超135万片晶圆,10台客户系统投运,机队可用率…
要点High NA EUV迈向量产,可用率84%,满足未来5个DRAM节点需求。